試樣拋光:
試樣拋光的目的是為了除去試樣磨面上留下的磨痕,得到似鏡面的表面,為顯示組織做好準(zhǔn)備。理想的拋光面應(yīng)是平滑光亮、無劃痕、無浮雕、無塑性變形層和不脫落非金屬夾雜物。
金相試樣的拋光方法按其作用本質(zhì)劃分,常見的有一下幾種:
試樣拋光 :機械拋光、化學(xué)拋光、電解拋光、綜合拋光(機械化學(xué)拋光、機械電解拋光)
金相試樣終顯示前的品質(zhì)是由拋光品質(zhì)決定的,而拋光前試樣磨面表面磨制及產(chǎn)生變形層的情況又直接影響拋光品質(zhì)。因此在進行拋光工作以前,必須對磨面進行檢查,如果在磨面上還留下有較深磨痕,即使這些深磨痕為數(shù)極少,在拋光過程中也是難于去除的。在這樣的情況下,應(yīng)重新對試樣磨光,使在磨面上只留下單一方向的均勻的細磨痕及較淺的變形層時,才能進行拋光。